ASML:已经开始陆续与中企说再见了

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作者: 相思树下相思赋 | 时间: 2022-5-14 10:45:58 | 其他|
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发表于 2022-5-14 10:45:58| 显示全部楼层 |阅读模式
AI、5G、物联网等设备的快速发展,芯片发挥出的重要性愈发凸显。提到芯片,大家想到的或许是英特尔、高通等芯片巨头,值得注意的是,如果没有芯片制造所用到的光刻机,这些企业只能是纸上谈兵。

对光刻机有所了解的网友都知道,全球唯一能制造出EUV光刻机的企业是荷兰的ASML,它也是光刻机金字塔最顶尖的企业,也是芯片产业链中的核心供应商,台积电、三星这些顶级芯片制造企业,都需要ASML的光刻机生产芯片。
不过,ASML并不只是生产光刻机,还有相关配套的业务,比如光学计算和电子束计量与检测等,这些设备并不是用于芯片制造环节,而是用于提升芯片制造过程中的良品率。

众所周知,芯片良品率的高低,不管是对企业还是终端用户都有巨大的影响,比如良品率低,制造芯片的成本也就越高、利润也会更低,而对于终端用户而言,良品率低还会导致芯片在高频输出时容易出现发热的问题,反之则不然。
由于ASML在光刻机领域绝对领先优势,外加上芯片制造企业与ASML的“亲密”关系,这让ASML在该领域也有非常不错的市场份额。然而,近两年老美利用芯片专利大棒给国产半导体施加紧箍,让国产半导体呈现出了全面开花的姿态。而ASML方面传出消息,中企已经陆续开始说再见了!

首先,在电子束测量设备方面,2021年国内企业东方晶源成功研发出来12英寸的电子束量测设备出机,一度填补了国内的市场空白,并且还获得内地半导体巨头中芯国际的鼎力支持,也让东方晶源量产后随即交付。而短短九个月之后,也就是2022年4月份,东方晶圆首台8英寸关键尺寸量测装备也完成了出机,并出货国内知名集成电路企业燕东微电子。

肉眼可见的进步速度,彰显出了国内企业在电子束测量设备方面的技术实力,更为中企提高芯片制造良品率提供了坚实的基础。对于未来国产芯片制造技术弯道超车提供了充足的保障。
其次,东方晶源也是国内光刻机产业链中的重要一员,并且所处的地方还是属于重要的“缺陷检测”环节,这是光刻机配套设施中的重要环节。在此之前,ASML在没有任何证据的情况下指责东方晶源侵犯了ASML的技术专利,但东方晶源第一时间做出了反击,并回应东方晶源有自主的、完备的知识产权,ASML此举没有占据到任何便宜。

也就是说,电子束测量和光刻机的光刻机产业链上的某些环节,中企已经开始和ASML说再见了。
除了这些,其他领域中企也实现了国产替代,比如蚀刻机方面,虽然早期这类设备受限于海外企业,但国内中微半导体已经研制出5nm高端蚀刻机,并且完全达到了世界领先水平。而上海微电子的封装光刻机、北方华创的气相沉积设备也能满足新的市场需求。
除了中企在设备方面的突围,南大光电还掌握了ArF光刻胶、MO源、高纯ALD/CVD前驱体、氢类电子特气、含氟电子特气等关键电子材料的核心技术。也就是说,国内光刻机产业链许多环节,在也与ASML等老美所主导的产业链说再见。

5月份,在上海积塔半导体有限公司采购的33台设备中,包括你蚀刻机、i-line光刻机、Krf光刻机、铝蚀刻机等,大部分采用的是国产装备。也就是说国内芯片制造产业链企业已经在陆续摆脱对ASML等海外光刻机产业链的依赖。
对于ASML而言,可谓是进退两难了,如果还无法实现EUV对中企的出货,未来在国内的订单量只会越来越少,甚至在海外的市场份额也会被慢慢蚕食。对于此事,大家怎么看?

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